专利号：2020110721721
本发明提供一种高折射率纳米杂化消光材料制备方法，属于光学材料领域。解决消光材料折射率低导致用于高折射率光学元上消光能力差的问题。该消光材料包由A、B组分，A组分：四溴双酚A环氧树脂10～35份、纳米二氧化钛5～15份、络合剂5‑15份、超细活性碳粉5‑10份、高色素炭黑2～8份、助剂2‑8份、无机填料4～13份、混合溶剂10～42份；B组份：固化剂5‑32份、混合溶剂5‑32份、氨基化石墨烯0.5‑3份。制备A组分：将纳米二氧化钛、络合剂、一部分溶剂混合分散；将一部分四溴双酚A环氧树脂、一部分助剂、高色素炭黑和另一部分溶剂分散；将剩余A组分原料分散；上述全部分散液混合。将固B组分原料超声分散。该消光材料具有较高的折射率、制备方法简单。
